特許
J-GLOBAL ID：200903000578604265
表面分析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
縣 浩介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平2-414479
公開番号（公開出願番号）：特開平5-113418
出願日： 1990年12月25日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：
【要約】【目的】 試料励起線を用いる試料面分析で試料面の同一の微小領域を二種の励起線を用いて分析する場合に、試料を一つの装置から他の装置へ、或は一つの装置内でも移動させることなく二種の分析を可能にする。【構成】 一つの装置内に荷電粒子ビーム照射装置と光照射装置を試料の同一点を照射するように配置し、荷電粒子照射により試料から放出される二次放射線分光装置と、光照射により試料から放射される蛍光を分光する装置を設けた。
請求項（抜粋）：
試料上の一点に荷電粒子ビームを収束照射する線源および荷電粒子光学系と、試料の同一点に試料励起光を集中照射する光源および光学系と、荷電粒子線の照射により試料から放出される二次放射線を分光検出する装置と、試料面を観察する光学顕微鏡と、励起光により照射された試料より放射される蛍光を上記光学顕微鏡を通して導入され、上記蛍光を分光する分光装置とを備えた表面分析装置。
引用特許：
前のページに戻る
