特許

J-GLOBAL ID：200903000599442427

エアフィルタ濾材

発明者： 古田 喜久
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-118558
公開番号（公開出願番号）：特開2005-296860
出願日： 2004年04月14日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：

【課題】 半導体素子製造におけるプロセスガス濾過用エアフィルタ濾材であって、低圧力損失(高通気量)で、且つ小型、軽量化が可能であり、シール材を用いる必要がないエアフィルタ濾材を提供する。【解決手段】 半導体素子製造におけるプロセスガス濾過用エアフィルタ濾材として、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)多孔質膜を使用する。PTFE多孔質膜としては、捕集効率が99.99999%以上で、圧力損失が0.2〜1kPaのものを使用することが好ましい。また、PTFE多孔質膜は、2枚以上積層し、かつこれらを接着などで一体化せずに使用することが好ましい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

半導体素子製造におけるプロセスガス濾過用エアフィルタ濾材であって、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)多孔質膜を含むことを特徴とするエアフィルタ濾材。

IPC (1件)：

B01D71/36

FI (1件)：

B01D71/36

Fターム (9件)：

4D006GA44 ,  4D006HA42 ,  4D006HA91 ,  4D006JA30Z ,  4D006MB20 ,  4D006MC30X ,  4D006NA34 ,  4D006NA39 ,  4D006PC01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• エアフィルタ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-319240   出願人：株式会社荏原製作所
• 積層金属濾材とその製造方法、並びに該濾材によるフィルターエレメント
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-136174   出願人：日本精線株式会社
• 半導体製造プロセスガス用濾過部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-219383   出願人：日本精線株式会社