特許
J-GLOBAL ID:200903000615449526

吸気通路用ガス導入装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 富澤 孝 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-117454
公開番号(公開出願番号):特開2001-304050
出願日: 2000年04月19日
公開日(公表日): 2001年10月31日
要約:
【要約】【課題】軸受で吸気抵抗を増大させることなく弁軸を安定的に支持し、外気以外のガスを外気にムラなく混合させること。【解決手段】ガス導入装置12は、内管部17、外管部18及び間隙19と、外管部18に設けられる導入口21と、間隙19から吸気通路14へガスを導入する複数の導入孔23a,23bと、導入口21に設けられた弁座31と、弁座31に対応する弁体32と、弁体32から吸気通路14と直交する方向に延びる弁軸33と、吸気通路14を挟んで導入口21の反対側に設けられたアクチュエータ34と、導入口21の近傍で弁軸33の先端部を支持する第1の軸受36と、アクチュエータ34の近傍で弁軸33の基端部を支持する第2の軸受37と、弁軸33を内包するスリーブ40とを備える。
請求項(抜粋):
外気を流す吸気通路に外気以外のガスを導入するガス導入装置であって、吸気通路を構成する内管部と、前記内管部の外周に所定の間隙を隔てて配置された外管部と、前記外気以外のガスを前記間隙に導入するために前記外管部に設けられた導入口と、前記間隙に導入されたガスを前記吸気通路に導入するために、前記内管部の前記導入口と対向しない位置に設けられた導入孔と、前記導入口に対応して設けられた弁座と、前記弁座に対応して設けられた弁体と、前記弁体から延び、前記吸気通路と直交する方向に前記内管部及び前記外管部を貫通する弁軸と、前記導入口の配置とは反対側の前記外管部上に設けられ、前記弁軸を介して前記弁体を駆動するためのアクチュエータと、前記弁軸の一端部を支持するために前記導入口に隣接する位置において前記内管部に設けられた第1の軸受と、前記弁軸の他端部を支持するために前記アクチュエータに隣接する位置において前記内管部及び前記外管部の少なくとも一方に設けられた第2の軸受とを備えたことを特徴とする吸気通路用ガス導入装置。
IPC (2件):
F02M 25/07 580 ,  F02M 35/10 311
FI (2件):
F02M 25/07 580 F ,  F02M 35/10 311 E
Fターム (4件):
3G062BA01 ,  3G062EA10 ,  3G062ED05 ,  3G062ED15

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