特許
J-GLOBAL ID：200903000620210914

有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法及び、有機エレクトロルミネッセンス表示装置並びに、有機エレクトロルミネッセンス表示装置を備える表示装置

発明者：
四谷 真一

四谷 真一 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (2件)： 岡▲崎▼ 信太郎 ,  新井 全
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-162687
公開番号（公開出願番号）：特開2004-363049
出願日： 2003年06月06日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：
【課題】製造時に有機発光層に影響を与えることなくマイクロレンズを形成することができ、光の取り出し効率を向上した有機エレクトロルミネッセンス表示装置を容易に製造することができる有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法及び、有機エレクトロルミネッセンス表示装置並びに、有機エレクトロルミネッセンス表示装置を備える表示装置を提供すること。【解決手段】基板11上に成膜した第1の透明樹脂に対してフォトリソグラフィ処理を施すことで、有機発光層14からの光を屈折するマイクロレンズ17に応じたレンズパターンを形成し、レンズパターンに対してリフロー処理を施すことで、マイクロレンズ17を形成するマイクロレンズ形成ステップ、を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置1の製造方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
マトリクス状に交差する第1の電極及び透明な第2の電極によって制御されるスイッチング素子によって、前記第1の電極と前記第2の電極との間に設けられた有機発光層の発光状態が制御される面発光素子を備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、 透明な基板上に、前記有機発光層の発光状態を制御するスイッチング素子を形成するスイッチング素子形成ステップと、 前記基板上に成膜した第1の透明樹脂に対してフォトリソグラフィ処理を施すことで、前記有機発光層からの光を屈折するマイクロレンズに応じたレンズパターンを形成し、前記レンズパターンに対してリフロー処理を施すことで、前記マイクロレンズを形成するマイクロレンズ形成ステップと、 前記第1の透明樹脂の屈折率よりも低い屈折率の第2の透明樹脂を、前記マイクロレンズを覆うように充填した後に硬化する樹脂充填硬化ステップと、 前記第2の透明樹脂上に前記第2の電極を形成する第2の電極形成ステップと、 前記第2の電極上に前記有機発光層を形成する発光層形成ステップと、 前記有機発光層上に前記第1の電極を形成する第1の電極形成ステップと を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
IPC (3件)：
H05B33/10 ,  H05B33/02 ,  H05B33/14
FI (3件)：
H05B33/10 ,  H05B33/02 ,  H05B33/14 A
Fターム (6件)：
3K007AB03 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00
引用特許：
審査官引用 (4件)
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