特許
J-GLOBAL ID：200903000631793580
新規アミド化合物及びその製造中間体並びにそれらの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
有賀 三幸 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-157553
公開番号（公開出願番号）：特開平8-027084
出願日： 1994年07月08日
公開日（公表日）： 1996年01月30日
要約：
【要約】【構成】 アミド化合物(1)又はその塩及びその製造中間体であるアミドアルコール(2)、並びにそれらの製法。【化1】〔R1 及びR2 は-OHを有してもよいC1〜24のアルキル基又はアルケニル基、Xは-OH、-COOHもしくは-SO3Hを有してもよいC1〜6のアルキレン基又はアルケニレン基、X1は-OHを有してもよいC1〜6のアルキレン基又はアルケニレン基、Y1 は-COOH、SO3H 又は-OSO3H、Y2 は-OH、-OSO3H又は-OCO-X-COOH、Zはスルホアルキル基又はアミノ酸から1つのアミノ基を除いた基を示す。〕【効果】 この化合物は、皮膚、毛髪に対する刺激が少なく、起泡性に優れ、かつ皮膚等に好ましい感触を与える。
請求項（抜粋）：
次の一般式(1)【化1】〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なってヒドロキシル基が置換していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数1〜24のアルキル基又はアルケニル基を示し、Xはヒドロキシル基、カルボキシル基もしくはスルホン酸基が置換していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数1〜6のアルキレン基又はアルケニレン基を示し、Y1 はカルボキシル基、スルホン酸基又は硫酸残基を示し、Y2 はヒドロキシル基、硫酸残基又は基-OCO-X-COOHを示し、Zはスルホアルキル基又はアミノ酸もしくはその塩から1つのアミノ基を除いた基を示す。〕で表されるアミド化合物又はその塩。
IPC (4件)：
C07C233/35
, C07C231/02
, C07C235/10
, C07C309/17
