特許
J-GLOBAL ID：200903000633546849
ジアリールホスホロハリデート化合物の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
羽鳥 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-283820
公開番号（公開出願番号）：特開平8-143584
出願日： 1994年11月17日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：
【要約】【目的】 優れた難燃効果を有する難燃剤を形成し得る、トリフェニルホスフェイトを全く含まず高選択率で得られるジアリールホスホロハリデート化合物の製造方法を提供すること。【構成】 本発明のジアリールホスホロハリデート化合物の製造方法は、2,6-ジメチルフェノール類とオキシハロゲン化リンとを反応させて下記〔化1〕の一般式(I)で表されるジアリールホスホロハリデート化合物を製造するに際し、触媒として含窒素複素環化合物を用いることを特徴とする。【化1】
請求項（抜粋）：
2,6-ジメチルフェノール類とオキシハロゲン化リンとを反応させて下記〔化1〕の一般式(I)で表されるジアリールホスホロハリデート化合物を製造するに際し、触媒として含窒素複素環化合物を用いることを特徴とするジアリールホスホロハリデート化合物の製造方法。【化1】
IPC (4件)：
C07F 9/14
, B01J 31/02 102
, C07B 61/00 300
, C09K 21/12
