特許
J-GLOBAL ID:200903000635875572

シリコンウェーハのエッチング液、そのエッチング方法及びそのエッチング液の補給方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須田 正義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-163416
公開番号(公開出願番号):特開2000-353696
出願日: 1999年06月10日
公開日(公表日): 2000年12月19日
要約:
【要約】【課題】 ウェーハ表面の加工変質層を除去した上で、ウェーハの平坦度を維持し、しかもウェーハの表面粗さを損わない。エッチング液の僅かな補給量でエッチング能力を劣化させずにウェーハのエッチングを継続して行える。【解決手段】 フッ酸、硝酸、酢酸及び純水からなり、α、β及びεを次式(1)〜(3)で表すとき、次式(4)、(5)を満たすエッチング液である。α=[CH<SB>3</SB>COOH]<SB>wt</SB>/([HNO<SB>3</SB>]<SB>wt</SB>+[CH<SB>3</SB>COOH]<SB>wt</SB>)...(1)、β=[H<SB>2</SB>O]<SB>wt</SB>/([HNO<SB>3</SB>]<SB>wt</SB>+[H<SB>2</SB>O]<SB>wt</SB>)...(2)、ε=[HF]<SB>wt</SB>/([HNO<SB>3</SB>]<SB>wt</SB>+[HF]<SB>wt</SB>)...(3)、β<α≦40...(4)、ε <16...(5) 但し、式(1)〜(3)において、[HF]<SB>wt</SB>、[HNO<SB>3</SB>]<SB>wt</SB>、[CH<SB>3</SB>COOH]<SB>wt</SB>、[H<SB>2</SB>O]<SB>wt</SB>は液中のフッ酸、硝酸、酢酸、純水の重量である。
請求項(抜粋):
フッ酸、硝酸、酢酸及び純水からなるエッチング液であって、パラメータα、β及びεを下記の式(1)〜(3)でそれぞれ表すとき、下記の式(4)及び(5)を満たすことを特徴とするシリコンウェーハのエッチング液。【数1】β < α ≦ 40 (4)ε <16 (5)但し、式(1)〜(3)において、[HF]<SB>wt</SB>はエッチング液中のフッ酸の重量、[HNO<SB>3</SB>]<SB>wt</SB>はエッチング液中の硝酸の重量、[CH<SB>3</SB>COOH]<SB>wt</SB>はエッチング液中の酢酸の重量、[H<SB>2</SB>O]<SB>wt</SB>はエッチング液中の純水の重量である。
IPC (2件):
H01L 21/308 ,  H01L 21/306
FI (2件):
H01L 21/308 B ,  H01L 21/306 B
Fターム (7件):
5F043AA02 ,  5F043BB02 ,  5F043DD16 ,  5F043DD30 ,  5F043EE29 ,  5F043FF07 ,  5F043GG10
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭59-094828

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