特許

J-GLOBAL ID：200903000639482028

無電解ニツケルめつき皮膜の製造法

発明者： 小松 立美 ,  萩原 伸吾 ,  山崎 一久
出願人/特許権者： 川崎化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-254126
公開番号（公開出願番号）：特開平5-065661
出願日： 1991年09月06日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：

【要約】【構成】 無電解ニッケルめっき液を使用してニッケルー燐合金系のめっき皮膜を製造する方法において、生成するニッケル合金めっき皮膜中の鉛含量を測定し、その含量を指標にしながら、めっき液中の鉛イオン濃度を、このめっき液に添加する鉛塩溶液の補充量で調節することを特徴としている。【効果】 生成するニッケル合金めっき皮膜の中の鉛含量とニッケル合金めっき皮膜の性状の良否とは相関関係があり、この鉛含量を指標にして鉛塩溶液補充量を調節することにより、無電解めっき液の安定を図り、操作上の影響を排除し、優れた性状のニッケル合金めっき皮膜が得られる。

請求項（抜粋）：

ニッケル塩水溶液に錯化剤としてヒドロキシカルボン酸類、pH緩衝剤として脂肪族カルボン酸類又は芳香族カルボン酸類、還元剤として次亜燐酸塩及びめっき液安定剤として微量の鉛イオンを含む無電解ニッケルめっき液を使用してニッケル合金めっき皮膜を製造する方法において、生成するニッケル合金めっき皮膜中の鉛含量を測定し、その含量を指標にしながら、めっき液中の鉛イオン濃度を鉛塩補充液で調節することを特徴とする無電解ニッケルめっき皮膜の製造法。