特許
J-GLOBAL ID：200903000668967600
酸化物薄膜の熱処理方法および熱処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-257968
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124923
出願日： 1994年10月24日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：
【要約】【目的】損傷を与えることなしに、リーク電流を低減させることができる酸化物薄膜の熱処理方法およびこれに用いる熱処理装置を提供する。【構成】重水素ランプ1と低圧水銀ランプ2からの光を照射しながら、酸化性ガス雰囲気中において酸化物薄膜4を熱処理する。重水素ランプ1によって酸素がオゾンに励起され、低圧水銀ランプ2によってオゾンが酸素ラジカルに励起される。【効果】プラズマを用いないため、酸化物薄膜に損傷が生ぜず、さらに、酸素ラジカルが常に生成され続けるので、300°C以上の高温においても熱処理を行なうことができ、高い絶縁耐圧を有する酸化物薄膜を作製できる。
請求項（抜粋）：
酸化物薄膜を酸化性雰囲気中において熱処理する方法であって、当該熱処理は少なくとも130nm以上170nm以下に発光波長を有する第1の光源から発する第1の光および少なくとも200nm以上300nm以下に発光波長を有する第2の光源から発する第2の光を、上記酸化物薄膜に照射して行われることを特徴とする酸化物薄膜の熱処理方法。
IPC (5件)：
H01L 21/316
, H01L 21/22 511
, H01L 21/268
, H01L 27/108
, H01L 21/8242
