特許

J-GLOBAL ID：200903000671592129

処理液供給方法及びその装置

発明者： 井上 秀和 ,  笹田 滋
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-178007
公開番号（公開出願番号）：特開平11-019568
出願日： 1997年07月03日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：

【要約】【課題】 流量を徐々に低下させることによりエアの侵入を防止して吐出の均一性を向上させることができ、処理ムラを防止することができる。【解決手段】 処理液供給ノズルから基板に対して一定の処理流量QESで処理液を供給することにより処理を施す処理液供給方法において、基板に対する処理液の供給を停止する際には、停止時間TS =1秒程度で処理液の流量を処理流量QESから徐々に低下させるようにした。これによりウォーターハンマー現象を防止できるので、吐出孔からエアが侵入することを防止して吐出を均一にすることができる。したがって、処理ムラを防止することができる。

請求項（抜粋）：

処理液供給ノズルから基板に対して一定の処理流量で処理液を供給することにより処理を施す処理液供給方法において、基板に対する処理液の供給を停止する際には、処理液の流量を前記処理流量から徐々に低下させるようにしたことを特徴とする処理液供給方法。

IPC (5件)：

B05C 11/10 ,  B05C 11/08 ,  B05D 3/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/31

FI (7件)：

B05C 11/10 ,  B05C 11/08 ,  B05D 3/00 B ,  B05D 3/00 D ,  H01L 21/31 A ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C