特許
J-GLOBAL ID：200903000677224717
成膜装置および成膜方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
増田 達哉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-259477
公開番号（公開出願番号）：特開2001-081558
出願日： 1999年09月13日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：
【要約】【課題】多彩な膜組成・膜構成を得ることができ、所望の薄膜を短時間で効率的に製造でき、特に、傾斜屈折率薄膜を容易に形成することができる成膜装置および前記成膜装置を用いた成膜方法を提供することにある。【解決手段】成膜装置1は、チャンバ2と、基板3を保持する保持部4と、膜厚計5と、シャッタ6と、第1の材料供給源7と、第2の材料供給源8と、駆動系11と、制御手段12と、ガイド部材15とを有している。第1の材料供給源7は、チャンバ2の底部に固定される固定材料供給源であり、第2の材料供給源8は、駆動系11により移動可能な可動材料供給源である。
請求項（抜粋）：
チャンバと、チャンバ内に配置された複数の材料供給源と、薄膜形成対象物を保持する保持部とを有し、気相成膜法により材料供給源から供給される膜材料により薄膜形成対象物に成膜する成膜装置であって、前記材料供給源の少なくとも1つが移動可能であり、この移動により前記薄膜形成対象物の成膜面の法線と、前記材料供給源と前記成膜面とを結ぶ線とのなす角度が変更されることを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/54 C
, G02B 1/10 Z
2K009BB02
, 2K009BB14
, 2K009BB24
, 2K009CC01
, 2K009CC03
, 2K009DD04
, 2K009DD09
, 2K009EE00
, 4K029BA46
, 4K029BA48
, 4K029BC07
, 4K029DB14
, 4K029DB23
, 4K029EA01
, 4K029EA02
