特許
J-GLOBAL ID：200903000683194587
真空ラミネート装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-204194
公開番号（公開出願番号）：特開平9-051112
出願日： 1995年08月10日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：
【要約】【課題】 生産性の高い太陽電池モジュールの製造装置として適用される真空ラミネート装置を得る。【解決手段】 筒管102が環状体とされこの環状体の内周側の壁に複数の脱気孔105が形成される。脱気孔105は基材101の垂直面に対し0°<θ<90°の式を満たす仰角を有して構成される。この環状体は板状の基材101上へ据付け固定され、環状体を蓋部材107が覆いラミネート処理のための空間部を構成する。空間部を真空引きする際、蓋部材107が環状体および基材101へ吸引されるが、脱気孔105が基材の垂直面に対し仰角方向に形成されているため、脱気孔105が蓋部材107により塞がれ難い。蓋部材107が脱気孔を塞ぐことがないので真空引きが失敗することがなく、生産性が向上する。
請求項（抜粋）：
筒管が環状体とされ該環状体の内周側の壁に複数の脱気孔を有する環状体と、該環状体が据付け固定された基材と、前記環状体を覆う蓋部材とで空間部を形成し、該空間部を真空引きする真空ラミネート装置において、前記脱気孔が前記基材の垂直面に対し、0°<θ<90°の式を満たす仰角を有して構成されたことを特徴とする真空ラミネート装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 31/04 F
, H01L 21/312 C
