特許

J-GLOBAL ID：200903000690965122

熱処理装置

発明者： 山口 天和 ,  宮田 敏光
出願人/特許権者： 株式会社日立国際電気
代理人 (1件)： 梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-001541
公開番号（公開出願番号）：特開2002-208591
出願日： 2001年01月09日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
要約：

【要約】【課題】 ウエハ面内の複数点の温度を計測し処理温度を制御する。【解決手段】 バッチ式縦形ホットウォール形熱処理装置10において、プロセスチューブ11の側壁を貫通して放射温度計50を処理室14のボート21に保持された上下のウエハ1、1間に挿入して、ウエハ1の下面の中心部および周辺部に順次対向させる。放射温度計50は温度コントローラ33に接続し、温度コントローラ33は放射温度計50からの計測温度でヒータ32をフィードバック制御するように構成する。【効果】 放射温度計でウエハの中心部および周辺部の現在の実際の温度をそれぞれ計測しヒータをフィードバック制御することで、熱処理中や昇降温時のウエハの中心部と周辺部の温度差を解消できるため、ウエハ面内の処理状態分布の均一性を向上できる。

請求項（抜粋）：

温度計がプロセスチューブの側壁を貫通して処理室に挿入されており、この温度計が進退することによって前記処理室に搬入された基板の径方向の複数点に対応した温度を計測するように構成されていることを特徴とする熱処理装置。

IPC (8件)：

H01L 21/31 ,  F27B 5/18 ,  F27D 21/00 ,  G01J 5/02 ,  G01J 5/10 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/324

FI (9件)：

H01L 21/31 E ,  F27B 5/18 ,  F27D 21/00 G ,  G01J 5/02 K ,  G01J 5/10 B ,  G01J 5/10 C ,  H01L 21/22 501 N ,  H01L 21/22 511 Q ,  H01L 21/324 T

Fターム (23件)：

2G066AA06 ,  2G066AC01 ,  2G066AC11 ,  2G066BA42 ,  2G066BB01 ,  2G066BC11 ,  2G066CA01 ,  4K056AA09 ,  4K056BA01 ,  4K056BB06 ,  4K056CA18 ,  4K056FA12 ,  4K061AA01 ,  4K061BA11 ,  4K061CA08 ,  4K061DA05 ,  4K061FA07 ,  4K061GA06 ,  5F045AA06 ,  5F045DP19 ,  5F045EB02 ,  5F045GB01 ,  5F045GB15