特許
J-GLOBAL ID：200903000691761865
レーザ描画装置および方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青木 朗 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-132688
公開番号（公開出願番号）：特開平5-326356
出願日： 1992年05月25日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：
【要約】【目的】 半導体装置の製造に用いるマスク、レチクル等のパターンを形成するために有用なレーザ描画装置および描画方法に関し、分割された複数のレーザビームの断面形状を調整することにより、微細パターン描画時にも十分なコントラストが得られるように改良したレーザ描画装置および描画方法を提供することを目的とする。【構成】 基板上に複数のレーザビームを同時に照射して所定パターンを描画する際に、個々のレーザビームの光路上に、レーザビーム外周部分の少なくとも一部の進行を阻止するフィルターを設けて構成する。
請求項（抜粋）：
基板上に複数のレーザビームを同時に照射して所定パターンを描画する装置において、個々のレーザビームの光路上に、レーザビーム外周部分の少なくとも一部の進行を阻止するフィルターを設けたことを特徴とするレーザ描画装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 321
, H01L 21/30 311 S
