特許
J-GLOBAL ID：200903000700417854
エッチング終点検出方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-166676
公開番号（公開出願番号）：特開平8-031805
出願日： 1994年07月19日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：
【要約】【目的】 被処理物がケミカルルミネッセンスを発すると否とにかかわらず、エッチングの終点を正確かつ能率的に検出することができるエッチング終点検出方法を提供する。【構成】 表面に薄膜が形成された被処理物を真空容器内のエッチング室内に載置し、フッ素元素及び窒素元素を含む反応性ガスを放電室で活性化したのちエッチング室内に導入し、上記反応性ガスをエッチング室内に導入した際にエッチング室内において認められる光を光検出器で検出し、上記反応性ガスの活性種を上記薄膜に照射してエッチング加工し、上記光検出器によって検出される光の強度の変化からエッチングの終点を検出するようにしたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
表面に薄膜が形成された被処理物を真空容器内のエッチング室内に載置し、フッ素元素及び窒素元素を含む反応性ガスを放電室で活性化したのちエッチング室内に導入し、上記反応性ガスをエッチング室内に導入した際にエッチング室内において認められる光を光検出器で検出し、上記反応性ガスの活性種を上記薄膜に照射してエッチング加工し、上記光検出器によって検出される光の強度の変化からエッチングの終点を検出するようにしたことを特徴とするエッチング終点検出方法。
IPC (2件)：
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