特許

J-GLOBAL ID：200903000705021100

投影露光装置

発明者： 若本 信二
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-243132
公開番号（公開出願番号）：特開平9-092593
出願日： 1995年09月21日
公開日（公表日）： 1997年04月04日
要約：

【要約】【課題】 走査方向による焦点位置の検出誤差又はアライメント誤差の発生を抑制し、各種センサの設置数を少なくする。【解決手段】 光源系とレチクルとの間に設けたレチクルブラインドにより、投影光学系の有効露光フィールド内に2つの照野フィールド21a,21bの何れかを走査方向に所定間隔で選択的に形成する。2つの照野フィールド21a,21bのほぼ中間の先読み領域22に焦点位置検出系のAFビームがスリット光として照射されるように設定し、2つのアライメントセンサのアライメント照明光が先読み領域22の両端のアライメント領域23a,23bに照射されるように設定する。ショット領域25aを-X方向に走査するときには、-X方向側の照野フィールド21aを使用し、ショット領域25bを+X方向に走査するときは、+X方向側の照野フィールド21bを使用する。

請求項（抜粋）：

マスク上の転写用のパターンの一部を投影光学系を介して基板上に投影した状態で、前記マスクを前記投影光学系に対して所定方向に走査するのと同期して、前記基板を前記投影光学系に対して前記所定方向に対応する方向に走査することにより、前記マスクの転写用のパターンの像を逐次前記基板上に転写する投影露光装置において、前記投影光学系の有効露光フィールド内で前記基板の走査方向に離れた位置に切り換え自在に複数個の露光領域を設定する露光領域切り換え手段と、前記複数個の露光領域の間の前記基板の前記投影光学系の光軸方向の位置を検出し、該検出結果に基づいて前記基板の高さ又は傾斜角を制御する面位置制御手段と、前記基板の前記投影光学系に対する走査方向に応じて前記露光領域切り換え手段を介して前記投影光学系による露光領域を切り換える制御手段と、を有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 520 C