特許

J-GLOBAL ID：200903000716584262

微細凹凸パターン形成材料、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー

発明者： 北條 美貴子
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (2件)： 岸本 達人 ,  山下 昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-377668
公開番号（公開出願番号）：特開2004-004515
出願日： 2002年12月26日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】版取られが少なく、賦型性及び賦型維持性に優れ、微細凹凸パターンを有する表面構造を精度よく複製でき、特に、近年の非常に複雑な微細凹凸パターンも正確に複製できる微細凹凸パターン形成材料を提供する。また、微細凹凸パターン転写箔、微細凹凸パターン形成方法、光学物品及びスタンパーを提供する。【解決手段】硬化前の動的貯蔵弾性率が、30°Cにおいて1×107Pa以上であり、且つ、60°Cから80°Cの温度域において上記30°Cにおける値の0.008倍〜0.8倍である硬化性樹脂組成物からなる微細凹凸パターン形成材料である。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

硬化前の動的貯蔵弾性率が、30°Cにおいて1×107Pa以上であり、且つ、60°Cから80°Cの温度域において上記30°Cにおける値の0.008倍〜0.8倍である硬化性樹脂組成物からなることを特徴とする、微細凹凸パターン形成材料。

IPC (3件)：

G02B5/18 ,  B29C59/02 ,  G03H1/02

FI (3件)：

G02B5/18 ,  B29C59/02 Z ,  G03H1/02

Fターム (41件)：

2H049AA03 ,  2H049AA07 ,  2H049AA40 ,  2H049AA43 ,  2H049AA55 ,  2K008AA00 ,  2K008DD03 ,  2K008DD12 ,  2K008EE01 ,  2K008EE04 ,  2K008FF11 ,  2K008GG05 ,  4F209AA36 ,  4F209AA42 ,  4F209AA44 ,  4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AG26 ,  4F209AH33 ,  4F209AH75 ,  4F209PA02 ,  4F209PA15 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC03 ,  4F209PC05 ,  4F209PH02 ,  4F209PN03 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ09 ,  4F209PW41 ,  4F209PW43 ,  4J027AA01 ,  4J027AH03 ,  4J027BA07 ,  4J027CA10 ,  4J027CA18 ,  4J027CB10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 樹脂組成物及びその硬化物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-205960   出願人：日本化薬株式会社
• 光学情報基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-348336   出願人：三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社