薄膜トランジスタ液晶ディスプレイの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：恩田博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-374901
公開番号（公開出願番号）：特開2003-084268
出願日： 2001年12月07日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：

【要約】【課題】カラーフィルター基板に対するブラックマトリックス層の粘着力を容易に向上させる薄膜トランジスタ液晶ディスプレイの製造方法を提供する【解決手段】薄膜トランジスタ液晶ディスプレイの製造方法は、向き合って配置された第1基板30と第2基板40とを提供する工程と、第1基板の表面にブラックマトリックス層32を形成する工程と、ブラックマトリックス層に、第1基板の表面を露出させる開口部33を形成する工程と、第、ブラックマトリックス層と開口部の表面にコート層34を形成する工程と、第2基板の表面に形成され、開口部と向き合った配置をなし、面積が前記開口部の面積より大きい遮光層44を形成する工程とを含む。ブラックマトリックス層32に開口部33を設けたことにより、ブラックマトリックス層32と基板30との粘着力が大幅に増加する。

請求項（抜粋）：

薄膜トランジスタ液晶ディスプレイの製造方法であって、向き合って配置された第1基板と第2基板とを提供する工程と、前記第1基板の表面にブラックマトリックス層を形成する工程と、前記ブラックマトリックス層に、前記第1基板の表面を露出させる開口部を形成する工程と、前記ブラックマトリックス層と前記開口部の表面にコート層を形成する工程と、前記第2基板の表面に形成され、前記開口部と向き合った配置をなし、面積が前記開口部よりも大きい遮光層を形成する工程と、前記遮光層と前記第2基板の表面に絶縁層を形成する工程と、前記コート層と前記絶縁層との間にシーラント層を形成する工程と、を備えることを特徴とする薄膜トランジスタ液晶ディスプレイの製造方法。

IPC (6件)：

G02F 1/1335 , G02B 5/00 , G02B 5/20 101 , G02F 1/1333 505 , G02F 1/1339 505 , G02F 1/1368

FI (6件)：

G02F 1/1335 , G02B 5/00 B , G02B 5/20 101 , G02F 1/1333 505 , G02F 1/1339 505 , G02F 1/1368

Fターム (38件)：

2H042AA09 , 2H042AA15 , 2H042AA26 , 2H048BA02 , 2H048BA11 , 2H048BB01 , 2H048BB02 , 2H048BB08 , 2H048BB42 , 2H089LA41 , 2H089NA37 , 2H089QA12 , 2H089TA05 , 2H089TA09 , 2H089TA12 , 2H089TA13 , 2H090HA01 , 2H090HD08 , 2H090LA03 , 2H090LA04 , 2H090LA05 , 2H090LA15 , 2H091FA02Y , 2H091FA34Y , 2H091GA07 , 2H091GA09 , 2H091GA13 , 2H091LA02 , 2H091LA12 , 2H092JA24 , 2H092JB51 , 2H092KB24 , 2H092KB26 , 2H092NA11 , 2H092NA18 , 2H092PA04 , 2H092PA08 , 2H092PA09

引用特許：

審査官引用 (9件)

液晶表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-234452 出願人：株式会社日立製作所, 日立デバイスエンジニアリング株式会社
液晶パネル
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-340029 出願人：松下電器産業株式会社
液晶表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-134669 出願人：株式会社日立製作所, 日立デバイスエンジニアリング株式会社

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