ガス回収装置、真空排気方法及び真空排気装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：福森久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-164852
公開番号（公開出願番号）：特開平11-057390
出願日： 1998年06月12日
公開日（公表日）： 1999年03月02日
要約：

【要約】【課題】本発明は、製造プロセスにおける排気ガス成分を冷却・液化し回収することで再利用を可能とし、有毒、有益なガスを廃棄することなく使用できるようにすること、この回収方法を真空排気系と合わせることにより、排気システムのメンテナンス頻度を激減させることを目的とする。【解決手段】ガス回収装置において、チャンバの排気ライン下流に配された、チャンバからの排気ガス中の1又は2以上の排気ガス成分を吸着させるための吸着筒又は直接分解させるための反応筒と、該排気ガス成分と反応し得るガスを該吸着筒又は反応筒の上流に導入するための手段と、該吸着筒又は反応筒からの排気ガスを液化回収させるための冷却筒とを有する。また、真空装置において、チャンバ内に常に何らかのガスを流し続けていることを特徴とする真空排気方法、及び真空排気ポンプとチャンバの間に、ガスを導入するための手段を設けたことを特徴とする真空排気装置である。

請求項（抜粋）：

チャンバの排気ライン下流に配された、チャンバからの排気ガス中の1又は2以上の排気ガス成分を吸着させるための吸着筒又は直接分解させるための反応筒と、該排気ガス成分と反応し得るガスを該吸着筒又は反応筒の上流に導入するための手段と、該吸着筒又は反応筒からの排気ガスを液化回収させるための冷却筒とを有することを特徴とするガス回収装置。

IPC (6件)：

B01D 53/34 ZAB , B01D 53/81 ZAB , B01D 53/86 ZAB , B01J 23/42 , H01L 21/3065 , H01L 21/205

FI (5件)：

B01D 53/34 ZAB A , B01J 23/42 A , H01L 21/205 , B01D 53/36 ZAB Z , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (8件)

ガス回収装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-287143 出願人：テイサン株式会社
特開昭61-078423
特開昭61-078423

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