特許
J-GLOBAL ID：200903000733421040

パターン形成基板、露光方法およびデバイスの製造方法

発明者：
新井 洋一

新井 洋一 について

, 
平柳 徳行

平柳 徳行 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 龍華 明裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-340921
公開番号（公開出願番号）：特開2009-164284
出願日： 2007年12月28日
公開日（公表日）： 2009年07月23日
要約：
【課題】高精度な投影パターンを形成するパターン形成基板。【解決手段】一方の面と他方の面とを有する基体部と、一方の面に形成されたパターンと、一方の面と他方の面との間に設けられ、一方の面内の異なる領域に対して互いに異なる力を加え、一方の面の形状を変形させる駆動部とを備える。駆動部は、異なる領域に対応した複数の圧電素子を有し、圧電素子への印加電圧を独立に制御することにより、一方の面の形状を変形させてもよい。また、駆動部は、異なる領域に対応した複数の発熱素子を有し、発熱素子への通電を独立に制御することにより、一方の面の形状を変形させてもよい。【選択図】図5
請求項１：
一方の面と他方の面とを有する基体部と、 前記一方の面に形成されたパターンと、 前記一方の面と前記他方の面との間に設けられ、前記一方の面内の異なる領域に対して互いに異なる力を加え、前記一方の面の形状を変形させる駆動部と、 を備えるパターン形成基板。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 531M ,  H01L21/30 531A ,  G03F7/20 503
Fターム (8件)：
2H097BA10 ,  2H097BB10 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  5F046GA03 ,  5F046GA12 ,  5F046GA14 ,  5F046GB00
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (7件)
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