水素分離及び水素化/脱水素反応のための集積されたパラジウムをベースとする微小膜

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：社本一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-585162
公開番号（公開出願番号）：特表2002-531246
出願日： 1999年12月02日
公開日（公表日）： 2002年09月24日
要約：

【要約】本発明は、サブミクロンスケールの厚みを有する金属をベースとする層(17)を含むガス分離膜に関する。金属をベースとする層(17)は、酸化ケイ素層及び窒化ケイ素層のようなセラミック層により支持されるパラジウム合金であり得る。MEMSを用いることにより、その金属をベースとする層の両側に化学成分を接触可能にするように一連の貫通孔(孔)(11)がパターン化され得る。ヒーター及び温度検知装置も、その膜(16)上にパターン化され得る。本発明は、そのガス分離膜を含んでなる化学微小反応器でもって携帯用発電システムに関する。本発明は、ガス分離膜の作製方法にも向けられている。非常に小さなサイズの化学微小反応器を作る能力に起因して、一連の反応器は、集積されたガス膜装置を製造するためにシリコン表面上へ組み合わせて使用され得る。

請求項（抜粋）：

ガス分離膜であって: 少なくとも1つの支持層; 該支持層に隣接して位置づけられた金属をベースとする層であって、約1μm未満の厚みを有し、且つ、ガス分離又は触媒作用を行うことができる層を含んでなるガス分離膜。

IPC (5件)：

B01D 53/22 , B01D 71/02 500 , B01J 23/44 , C01B 3/56 , H01M 8/06

FI (5件)：

B01D 53/22 , B01D 71/02 500 , B01J 23/44 M , C01B 3/56 A , H01M 8/06 G

Fターム (50件)：

4D006GA41 , 4D006KA66 , 4D006KA67 , 4D006KE12P , 4D006KE13P , 4D006KE16P , 4D006KE16Q , 4D006MA06 , 4D006MA22 , 4D006MA31 , 4D006MB16 , 4D006MC02 , 4D006MC03 , 4D006NA31 , 4D006PA03 , 4D006PB66 , 4D006PC69 , 4G040FA02 , 4G040FB04 , 4G040FB05 , 4G040FB06 , 4G040FC01 , 4G040FD04 , 4G040FE01 , 4G069AA03 , 4G069BA02A , 4G069BA02B , 4G069BA13A , 4G069BA13B , 4G069BB02A , 4G069BB02B , 4G069BB04A , 4G069BB11A , 4G069BB11B , 4G069BB15A , 4G069BC72A , 4G069BC72B , 4G069BD05A , 4G069BD05B , 4G069CB02 , 4G069CB07 , 4G069CC32 , 4G069CC40 , 4G069EB15X , 4G069EB15Y , 4G069EC28 , 4G069EE03 , 5H027AA02 , 5H027BA01 , 5H027BA16

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