特許
J-GLOBAL ID：200903000747466276
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安田 敏雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-082122
公開番号（公開出願番号）：特開平6-295433
出願日： 1993年04月08日
公開日（公表日）： 1994年10月21日
要約：
【要約】【目的】 磁気記録媒体の表面に凹凸を形成するに際し、生産性が良好で、加工部の品質も良好な磁気記録媒体の製造方法を提供する。【構成】 非磁性の基板の表面側に磁性層及び保護層を同順序で積層形成する磁気記録媒体の製造方法である。基板又は基板に積層されたいずれかの層すなわち被照射物Aの表面に、紫外レーザービームLを照射してアブレーションを起こさせ、アブレーションにより生じた原子、分子の堆積物からなる凸部Cを開口縁部に備えた凹部Bを被照射物の表面に所定間隔で形成する。この際、紫外レーザーを照射するのは、非金属材質で形成された基板又は層がよい。
請求項（抜粋）：
非磁性の基板の表面側に磁性層及び保護層を同順序で積層形成する磁気記録媒体の製造方法において、基板又は基板に積層されたいずれかの層の表面に、紫外レーザービームを照射してアブレーションを起こさせ、アブレーションにより生じた原子、分子の堆積物からなる凸部を開口縁部に備えた凹部を被照射物の表面に所定間隔で形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
