特許
J-GLOBAL ID:200903000765638149

排ガス中のダイオキシン処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 足立 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-210907
公開番号(公開出願番号):特開平11-047553
出願日: 1997年08月05日
公開日(公表日): 1999年02月23日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、ダイオキシンを吸着.除去する排ガス中のダイオキシン処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】 排ガス中のダイオキシンを活性炭によって吸着・除去する排ガス中のダイオキシン処理方法において、排ガス中のHClガス濃度を検出し、HClガス濃度に比例させて排ガス中に活性炭を投入することを特徴とする。こうすると、HClガスの濃度に合わせて活性炭を投入するから、無駄が少なく効率よくダイオキシンを吸着・除去できる。
請求項(抜粋):
ダイオキシンを含有する排ガス中のダイオキシンを活性炭で吸着・除去する排ガス中のダイオキシン処理方法において、前記排ガス中のガスの濃度を検出し、該ガスの濃度に比例させて前記排ガス中に活性炭を投入することを特徴とする排ガス中のダイオキシン処理方法。
IPC (3件):
B01D 53/70 ,  F23J 15/00 ZAB ,  F27D 17/00 104
FI (3件):
B01D 53/34 134 E ,  F27D 17/00 104 G ,  F23J 15/00 ZAB J

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