特許
J-GLOBAL ID：200903000767092828
スパッタリング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-115063
公開番号（公開出願番号）：特開平7-316807
出願日： 1994年05月27日
公開日（公表日）： 1995年12月05日
要約：
【要約】【構成】 基板21,22が取り付けられる一対のパレット19,20と、これら一対のパレット19,20上に取り付けられた基板21,22と対向して設けられた一対のRFカソード29,30を有してなるスパッタリング装置において、上記一対のパレット19,20に、互いに等しい接地距離で接地をとる。【効果】 1回のスパッタ操作で多数の基板上に、互いに膜質の等しいスパッタ膜が形成できる。したがって、例えばこのスパッタリング装置を光磁気ディスクの誘電体層の形成に用いれば、光学特性,機械的特性が均一な光磁気ディスクを高い生産効率で製造することが可能になる。
請求項（抜粋）：
基板が取り付けられる一対のパレットと、これら一対のパレット上に取り付けられた基板と対向して設けられた一対の高周波カソードを有してなるスパッタリング装置において、上記一対のパレットは、互いに略等しい接地距離で接地がなされていることを特徴とするスパッタリング装置。
IPC (2件)：
C23C 14/34
, G11B 11/10 541
