特許

J-GLOBAL ID：200903000767313310

スチレンまたはスチレン誘導体の蒸留方法

発明者： 平山 一雄 ,  田原 義博
出願人/特許権者： 北興化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-292890
公開番号（公開出願番号）：特開2003-096012
出願日： 2001年09月26日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】新しいスチレンまたはスチレン誘導体の蒸留方法を提供する。【解決手段】2,6-ジクロロキノン 4-クロロイミドを重合禁止剤として、一般式I(Rは水素、アルキル基アルコキシ基、アルカノイルオキシ基、等を表し、nは0〜5の整数であり、nが2以上のときRは同一または相異なってもよく、さらにX1〜X3は同一または相異なって水素、アルキル基等を示す)のスチレン誘導体に添加し該スチレン誘導体を蒸留する。

請求項（抜粋）：

2,6-ジクロロキノン 4-クロロイミドを重合禁止剤として、スチレンまたはスチレン誘導体に添加し、その重合禁止剤の存在下にスチレンまたはスチレン誘導体を蒸留することを特徴とする、スチレンまたはスチレン誘導体の蒸留方法。

IPC (6件)：

C07C 41/42 ,  C07C 17/386 ,  C07C 25/28 ,  C07C 43/215 ,  C07C 67/54 ,  C07C 69/157

FI (6件)：

C07C 41/42 ,  C07C 17/386 ,  C07C 25/28 ,  C07C 43/215 ,  C07C 67/54 ,  C07C 69/157

Fターム (7件)：

4H006AA02 ,  4H006AD11 ,  4H006AD41 ,  4H006BJ50 ,  4H006EA21 ,  4H006EB33 ,  4H006GP03