特許
J-GLOBAL ID：200903000774731623
軟磁性薄膜およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-265884
公開番号（公開出願番号）：特開平5-109572
出願日： 1991年10月15日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【目的】 磁気ヘッド用メッキ膜を平滑に且つ、磁気的に分離した多層膜を形成させる。【構成】 メッキを進行させる電流方向に対して逆方向の直流バイアス電流をメッキ進行電流の大きさより電気量として小さく設定し、被メッキ物にパルス電流による電気メッキを行なう。これによって少なくとも磁気的に分離された多層膜構造を有する軟磁性薄膜を得る。
請求項（抜粋）：
パルス電流を用いた電気メッキ法で作製する軟磁性薄膜の製法であって、メッキを進行させる電流方向に対して逆方向の直流バイアス電流をメッキ進行電流の大きさより電気量として小さく設定し、被メッキ物にパルス電流による電気メッキを行なうことを特徴とする軟磁性薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
H01F 41/26
, C25D 7/00
, G11B 5/31
, H01F 10/16
