特許
J-GLOBAL ID：200903000835158581
低温焼成セラミックス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 郁男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-328380
公開番号（公開出願番号）：特開平10-212136
出願日： 1997年11月28日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：
【要約】【課題】 クオーツやクリストバライト等のSiO2 系フィラーを含む焼結体から成る低温焼成セラミックスにおいて、特定の温度領域で熱膨張が急激に変化するという熱膨張特性が消失した特性を持たせること。【解決手段】 ガラスと、クオーツやクリストバライト等のSiO2 系フィラーとの混合物を焼成して得られる焼結体から成り、該焼結体は、クオーツ又はクリストバライトの101面におけるピークが少なくとも0.05度(2θ)低角側にシフトしているX線回折像を有するSiO2 系結晶を含有していることを特徴とする。101面におけるピークを低角側にシフトさせることにより、クオーツやクリストバライトに特有の温度領域で熱膨張が急激に変化する性質を消失させることができる。
請求項（抜粋）：
ガラスと、SiO2 系フィラーとの混合物を焼成して得られる焼結体から成り、該焼結体は、クオーツ又はクリストバライトの101面におけるピークが少なくとも0.05度(2θ)低角側にシフトしているX線回折像を有するSiO2 系結晶を含有していることを特徴とする低温焼成セラミックス。
IPC (3件)：
C03C 14/00
, H01L 23/15
, H05K 1/03 610
C03C 14/00
, H05K 1/03 610 C
, H01L 23/14 C
