シリカ系被膜形成用溶液及びその製造方法、並びにシリカ系被膜及びその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大前要
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-203182
公開番号（公開出願番号）：特開2003-119409
出願日： 1999年11月04日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
要約：

【要約】【課題】触媒添加や熱処理工程を不要とし、室温に於いてもシリカ系被膜の形成が可能なシリカ系被膜形成用溶液及びその製造方法、並びに耐久性に優れたシリカ系被膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】シリカ系被膜形成用溶液は、非水系有機溶媒とクロロシロキサンオリゴマーとを含んで構成されることにより、基材との反応性に優れたものとできる。このシリカ系被膜形成用溶液を乾燥雰囲気中で基材11表面に塗布し、水分を含む雰囲気中に基材を取り出すと、触媒添加や熱処理を行うことなく耐久性等に優れたシリカ系被膜13を製造することができる。

請求項（抜粋）：

基材表面にシロキサン結合を介して形成されたシリカ系被膜であって、上記シリカ系被膜の化学構造中には炭化水素基を含まないことを特徴とするシリカ系被膜。

IPC (7件)：

C09D 1/00 , C08G 77/02 , C09D183/04 , C09J 1/00 , C09J183/02 , C09J183/04 , H01L 21/312

FI (7件)：

C09D 1/00 , C08G 77/02 , C09D183/04 , C09J 1/00 , C09J183/02 , C09J183/04 , H01L 21/312 C

Fターム (56件)：

4J035AA02 , 4J035LA03 , 4J035LB01 , 4J035LB02 , 4J035LB20 , 4J038AA011 , 4J038DL042 , 4J038DL052 , 4J038DL072 , 4J038DL082 , 4J038HA156 , 4J038HA216 , 4J038HA436 , 4J038HA441 , 4J038HA446 , 4J038JA01 , 4J038JA09 , 4J038JA11 , 4J038JC32 , 4J038JC35 , 4J038KA06 , 4J038KA14 , 4J038KA20 , 4J038LA03 , 4J038LA06 , 4J038MA07 , 4J038MA10 , 4J038PA18 , 4J038PA19 , 4J040AA011 , 4J040EK042 , 4J040EK052 , 4J040EK062 , 4J040EK072 , 4J040HA136 , 4J040HA301 , 4J040HA306 , 4J040HB01 , 4J040HB04 , 4J040HD32 , 4J040HD33 , 4J040HD36 , 4J040JB02 , 4J040JB03 , 4J040JB04 , 4J040JB05 , 4J040KA07 , 4J040KA23 , 4J040QA02 , 4J040QA04 , 4J040QA05 , 5F058AA08 , 5F058AC03 , 5F058AF04 , 5F058AG01 , 5F058AH03

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