特許

J-GLOBAL ID：200903000852539998

ヒドロキシエーテル化合物の製造方法及び洗浄剤組成物

発明者： 佐藤 純 ,  萬代 宏 ,  吉井 徹 ,  鈴木 薫 ,  戸田 晴彦
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-136180
公開番号（公開出願番号）：特開平11-315043
出願日： 1998年04月30日
公開日（公表日）： 1999年11月16日
要約：

【要約】【課題】 ヒドロキシ化合物とエポキシ化合物との反応によるヒドロキシエーテル化合物の製造方法において、副生物の生成を効果的に抑制してヒドロキシエーテル化合物を収率よく製造する方法及びその方法により得られる脂肪族基を含有するヒドロキシエーテル化合物を含有する洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】 ヒドロキシ化合物と、エポキシ化合物とを、酸性又は塩基性を有する固体触媒の存在下で反応させることを特徴とするヒドロキシエーテル化合物の製造方法。前記方法で得られた炭素数4以上の脂肪族基を含有するヒドロキシエーテル化合物を含有する洗浄剤組成物。

請求項（抜粋）：

ヒドロキシ化合物と、エポキシ化合物とを、酸性又は塩基性を有する固体触媒の存在下で反応させることを特徴とするヒドロキシエーテル化合物の製造方法。

IPC (3件)：

C07C 43/13 ,  C07C 41/03 ,  C11D 1/66

FI (3件)：

C07C 43/13 D ,  C07C 41/03 ,  C11D 1/66