特許
J-GLOBAL ID：200903000868141978

楕円形グラデーションNDフィルタの製造方法

発明者：
黒部 邦夫

黒部 邦夫 について


出願人/特許権者：
富士写真光機株式会社

富士写真光機株式会社 について


代理人 (1件)： 川野 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-205312
公開番号（公開出願番号）：特開平11-038206
出願日： 1997年07月15日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：
【要約】【課題】 真空蒸着法により略楕円形の金属薄膜を形成する楕円形グラデーションNDフィルタの製造方法であって、フィルタ基板およびマスク板の配置に工夫を施すとともに、フィルタ基板ではなくマスク板を回転させて蒸着を行うことにより、精度の良い金属薄膜を得る。【解決手段】 フィルタ基板6を、蒸着源2の蒸発飛来方向と直交する平面に対して傾斜させて固定配置するとともに、マスキングパターン4aが形成されたマスク板4を、フィルタ基板6よりも蒸着源2側において該フィルタ基板6と所定角度をなすように配置して回転させ、この状態で、蒸着源2を蒸発させてフィルタ基板6上に金属薄膜を蒸着形成する。その際、金属薄膜の中心濃度が所要濃度の約1/2になった時点でフィルタ基板6を180°回転させ、その後、蒸着源2を再度蒸発させて中心濃度が所要濃度になるように金属薄膜を蒸着形成する。
請求項（抜粋）：
フィルタ基板上に略楕円形の金属薄膜が中心部から外周部に向かって透過率が無段階に高くなるように形成された楕円形グラデーションNDフィルタの製造方法において、前記金属薄膜を真空蒸着法により形成する方法であって、真空雰囲気中において、前記フィルタ基板を、蒸着源の蒸発飛来方向と直交する平面に対して所定角度傾斜させて固定配置するとともに、所定のマスキングパターンが形成されたマスク板を、前記フィルタ基板よりも前記蒸着源側において該フィルタ基板と所定角度をなすように配置して回転させ、この状態で、前記蒸着源を蒸発させて前記フィルタ基板上に略楕円形の金属薄膜を蒸着形成し、該金属薄膜の中心濃度が所要濃度の約1/2になった時点で前記フィルタ基板を180°回転させ、その後、前記蒸着源を再度蒸発させて前記中心濃度が所要濃度になるように金属薄膜を蒸着形成することを特徴とする楕円形グラデーションNDフィルタの製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/00 ,  C23C 14/24
FI (2件)：
G02B 5/00 A ,  C23C 14/24 J
引用特許：
出願人引用 (4件)
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