直接還元法および回転床炉

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小谷悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-126133
公開番号（公開出願番号）：特開2001-020005
出願日： 2000年04月26日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：

【要約】【課題】原料を炉内に投入した直後に急速に加熱することによって金属酸化物の還元プロセスの生産性を向上させると共に、還元後期には原料が再酸化されるのを防止する為に還元性雰囲気を形成しつつ、原料より湧出する可燃性ガスを燃焼させることによって、燃料原単位のを低減を達成することのできる直接還元法、およびこの様な方法を実施する為の回転床炉の構成を提供する。【解決手段】製造プロセスを還元初期と還元後期に分け、前記原料から発生する全可燃性ガス量に対して80%を超えない可燃性ガスが生成する迄の任意の時期より前半を還元初期とすると共に、それ以降を還元後期とし、前記還元初期には前記原料近傍の雰囲気に対して強い攪拌作用を示す様に配置した第一の加熱手段によって前記原料を加熱・還元すると共に、還元後期には前記原料近傍の雰囲気に対して弱い攪拌作用を示す様に配置した第二の加熱手段によって前記原料を加熱・還元して金属を製造する様にした。

請求項（抜粋）：

金属酸化物と炭材を含む原料を回転床炉に供給した後、該原料を加熱・還元して金属を製造するに当たり、この製造プロセスを還元初期と還元後期に分け、前記原料から発生する全可燃性ガス量に対して80%を超えない可燃性ガスが生成する迄の任意の時期より前半を還元初期とすると共に、それ以降を還元後期とし、前記還元初期には前記原料近傍の雰囲気に対して強い攪拌作用を示す様に配置した第一の加熱手段によって前記原料を加熱・還元すると共に、還元後期には前記原料近傍の雰囲気に対して弱い攪拌作用を示す様に配置した第二の加熱手段によって前記原料を加熱・還元して金属を製造する様にしたことを特徴とする直接還元法。

IPC (4件)：

C21B 13/10 , F27B 9/16 , F27B 9/36 , F27D 7/02

FI (4件)：

C21B 13/10 , F27B 9/16 , F27B 9/36 , F27D 7/02 A

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