特許

J-GLOBAL ID：200903000871250966

光重合性混合物およびソルダレジストマスクの製造方法

発明者： マンフレッド ショーバー ,  ディーター バートマン ,  トーマス フェイ ,  ガブリエレ マン ,  ルシナ ヒンツ
出願人/特許権者： イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
代理人 (1件)： 谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-265859
公開番号（公開出願番号）：特開平7-212012
出願日： 1994年10月28日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：

【要約】【目的】 良好な膜形成を可能とし、かつ安定な半田工程を可能とする光重合性混合物および該混合物を用いたソルダレジストマスクの製造方法を提供することを目的とする。【構成】 光重合性混合物は、バインダ、光重合性モノマー、光重合開始剤、熱反応性基を2つ持つ化合物、フィラー、塗膜補助剤、および艶消剤を含むもので、さらに該艶消剤として、所定の給油度、粒子径、孔隙量、および表面pH値を持つシリカゲルを含む。またソルダレジストマスクの製造方法は、そのような光重合性混合物を用いる。

請求項（抜粋）：

(a)少なくとも一つの高分子バインダと、(b)少なくとも一つのエチレン的に不飽和な基を持つ少なくとも一つの光重合性モノマーと、(c)少なくとも一つのフォトイニシエータと、(d)少なくとも2つの熱反応性基を持つ少なくとも一つの化合物と、(e)少なくとも一つのフィラーと、(f)少なくとも一つの塗膜補助剤と、(g)酸化シリコンを含む少なくとも一つの艶消剤とを含有する光重合性混合物において、前記艶消剤は、少なくとも一種類のシリカゲルを含むもので、該少なくとも一種類のシリカゲルは、給油価が200g/100gないし360g/100g、平均粒子径が1μmないし10μm、孔隙量が1.2ml/gないし2.0ml/g、および表面pHの値が2ないし8であることを特徴とする光重合性混合物。

IPC (3件)：

H05K 3/28 ,  C09D 4/06 PDQ ,  C09J 4/06 JBH