特許
J-GLOBAL ID:200903000878269697

成膜用スパッタ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 義雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-050034
公開番号(公開出願番号):特開平11-229131
出願日: 1998年02月17日
公開日(公表日): 1999年08月24日
要約:
【要約】【課題】 誘電体膜物質からなり且つ紫外光領域で使用される光学薄膜を成膜する場合、光学薄膜への不純物の混入を低減して、これに起因する紫外吸収を著しく抑制した成膜用スパッタ装置を提供すること。【解決手段】 グラウンドシールド7をターゲット5と同じ材質で形成するか、または、グラウンドシールド7の表面にターゲット5と同じ材質のプレートを設けている。また、バッキングプレート6をターゲット5と同じ材質で形成するか、または、バッキングプレート6の表面にターゲット5と同じ材質のプレートを設けている。さらに、プラズマシールド8をターゲット5と同じ材質で形成するか、または、プラズマシールド8の表面にターゲット5と同じ材質のプレートを設けている。
請求項(抜粋):
電極を兼ねるバッキングプレートにターゲットを載置して、このターゲットの周囲に、バッキングプレートをスパッタから保護するためのグラウンドシールドを電気的に接地して設け、前記ターゲットにスパッタガスイオンを衝突させてスパッタし、飛び出した粒子を基板上に堆積して薄膜を基板上に成膜するための成膜用スパッタ装置において、前記グラウンドシールドを前記ターゲットと同じ材質で形成するか、または、前記グラウンドシールドの表面に前記ターゲットと同じ材質のプレートを設けたことを特徴とする成膜用スパッタ装置。

前のページに戻る