特許

J-GLOBAL ID：200903000888322103

高顔料濃度分散体の製造方法

発明者： 井出 勇作 ,  望月 明光 ,  大泉 哲朗
出願人/特許権者： 東洋インキ製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-223458
公開番号（公開出願番号）：特開平6-049386
出願日： 1992年07月30日
公開日（公表日）： 1994年02月22日
要約：

【要約】【目的】 高顔料濃度分散体の流動性と、流動性の臨界温度を高めたオフセット印刷インキ用高顔料濃度分散体の製造方法を提供する。【構成】 有機顔料100重量部、および、下記一般式(1)で表される有機色素誘導体1〜15重量部からなる顔料組成物をロジン変性フェノール樹脂に対して10〜40重量%配合し、40〜120°Cで分散せしめることを特徴とする印刷インキ用高顔料濃度分散体の製造方法。式(1) P-〔X-R〕n(式中、Pはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、アントラキノン系、ジオキサジン系、チオインジゴ系から選ばれる少なくとも一種の有機色素残基、Xは二価の結合基、Rは炭素数6〜21の飽和あるいは不飽和脂肪族炭化水素基、n は1〜4の整数、をそれぞれ示す。)

請求項（抜粋）：

有機顔料100重量部、および、下記一般式(1)で表される有機色素誘導体1〜15重量部からなる顔料組成物をロジン変性フェノール樹脂に対して10〜40重量%配合し、40〜120°Cで分散せしめることを特徴とする印刷インキ用高顔料濃度分散体の製造方法。式(1) P-〔X-R〕n(式中、Pはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、アントラキノン系、ジオキサジン系、チオインジゴ系から選ばれる少なくとも一種の有機色素残基、Xは二価の結合基、Rは炭素数6〜21の飽和あるいは不飽和脂肪族炭化水素基、n は1〜4の整数、をそれぞれ示す。)

IPC (2件)：

C09B 67/46 ,  C09D 17/00 PUJ