特許
J-GLOBAL ID：200903000890463261
ベストフォーカス決定方法及びそれを用いた露光条件決定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-211230
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045609
出願日： 1995年07月26日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：
【要約】【課題】 高価な走査型電子顕微鏡を使用せずに、レジストの種類に対応したベストフォーカス位置及び最適の露光量を短時間で自動的に高精度で決定できるベストフォーカス決定方法及びそれを用いた露光条件決定方法を得ること。【解決手段】 レチクルの面上に一方向に垂直な方向に伸びる一定線幅のジグザグ開口を該方向に一定周期で複数個並べて成るパターンを配置し、投影レンズの異なるフォーカス位置で該パターンを感光基板上に転写して複数の感光パターンを形成し、該複数の感光パターンを光電変換手段の撮像面に結像し、該光電変換手段から該方向に沿って1次元電気信号列を順次出力し、該1次元電気信号列をフーリエ変換して空間周波数成分の位相情報を算出し、該位相情報より該投影レンズのベストフォーカス位置を決定する。
請求項（抜粋）：
投影レンズの光軸に対して垂直な面内にレチクルを配置し、該レチクルの面上に一方向に対して周期性のあるパターンを配置し、該パターンを該投影レンズによって感光基板上に転写して感光パターンを形成することを異なるフォーカス位置で繰り返し、該感光基板上に転写した複数の感光パターンによって該投影レンズのベストフォーカス位置を決定するベストフォーカス決定方法であって、該パターンは該レチクルの面上で該一方向に垂直な方向に伸びる一定線幅のジグザグ開口を該方向に一定周期で複数個並べて成っており、該パターンを異なるフォーカス位置で該感光基板上に転写して複数の感光パターンを形成する工程と、該複数の感光パターンを光電変換手段の撮像面に結像する撮像工程と、該光電変換手段より得られる画像信号から該ジグザグ開口の像の輪郭を構成するジグザグ線の1つの周波数成分に関する情報を算出する工程と、該情報に基づいてベストフォーカス位置を決定する工程とを有することを特徴とするベストフォーカス決定方法。
IPC (6件)：
H01L 21/027
, G03B 27/72
, G03F 7/20 521
, G03F 7/22
, G03F 9/00
, G03F 9/02
H01L 21/30 526 B
, G03B 27/72
, G03F 7/20 521
, G03F 7/22 H
, G03F 9/00 H
, G03F 9/02 H
, H01L 21/30 516 D
