特許

J-GLOBAL ID：200903000896738190

プラズマイオン源質量分析装置

発明者： 白崎 俊浩 ,  奥本 豊治
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立計測エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-204817
公開番号（公開出願番号）：特開2000-036284
出願日： 1998年07月21日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：

【要約】【課題】質量スペクトルデ-タから元素の濃度を直感的に推定するのに適したプラズマイオン源質量分析装置を提供すること。【解決手段】プラズマイオン源部2で生成されたプラズマ中には試料1が導入され、イオン化される。そのようにして生成されたイオンはインタ-フエ-ス4を介して取り出され、さらにイオンレンズ6によって収束されてイオントラップタイプの質量分析部7に導入される。ここでイオンは質量分析され、検出器によって検出される。検出器からの信号はコンピュ-タ8に導入され、処理がなされて質量スペクトルデ-タが得られる。コンピュ-タ8は質量スペクトルデ-タをイオン化率及び同位体比にもとづいて補正して、補正された質量スペクトルデ-タを生成し、表示する。

請求項（抜粋）：

元素をイオン化してそのイオンを生成するプラズマイオン源と、前記イオンを蓄積し、その蓄積したイオンを質量分析するイオントラップタイプの質量分析部と、該質量分析部で分析されたイオンの質量スペクトルデ-タを生成するとともに、該質量スペクトルデ-タを前記元素のイオン化率にもとづいて補正する手段とを備えていることを特徴とするプラズマイオン源質量分析装置。

IPC (2件)：

H01J 49/26 ,  G01N 27/62

FI (2件)：

H01J 49/26 ,  G01N 27/62 D

Fターム (4件)：

5C038HH16 ,  5C038HH21 ,  5C038HH28 ,  5C038HH30