特許

J-GLOBAL ID：200903000905490520

真空蒸着装置

発明者： 国枝 敏明
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-015182
公開番号（公開出願番号）：特開平6-228743
出願日： 1993年02月02日
公開日（公表日）： 1994年08月16日
要約：

【要約】【目的】 高価な高融点蒸着材料を有効に活用し、機能性素子の製造コストの低下が図れる真空蒸着装置を提供する。【構成】 レーザー発振器13で発生したレーザービームを石英窓14を通して蒸着材料7に照射し、指向性の強い蒸発方向分布特性をもった蒸気を発生させ、効率良く蒸気を高分子フィルム4に付着させる。このとき、補助加熱源15を併用すると、より広範な蒸着条件の選択が可能となる。

請求項（抜粋）：

フイルム状の基板の上に蒸発源から発生させた蒸気を連続的に付着させて薄膜を製造する装置において、レーザービームにより蒸着材料を加熱し蒸発させる機構を備えたことを特徴とする真空蒸着装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特公平2-013612
  
• 特開昭51-026204
  
• 特公昭57-017682