特許
J-GLOBAL ID:200903000906283870

希土類磁石の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 三反崎 泰司 ,  藤島 洋一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-081537
公開番号(公開出願番号):特開2004-289021
出願日: 2003年03月24日
公開日(公表日): 2004年10月14日
要約:
【課題】耐食性を向上させることができる希土類磁石の製造方法を提供する。【解決手段】希土類元素を含む磁石素体を作製し(ステップS101,S102)、加工・面研磨する(ステップS103)。次いで、磁石素体を脱脂処理したのち(ステップS104)、酸により溶解処理を行う(ステップS105)。続いて、溶存酸素濃度が質量単位で3.0ppm以下の水に浸漬処理し、溶解処理により生じた磁石素体の表面の付着物を除去する(ステップS106)。そののち、保護膜を形成し(ステップS107,S108)、後処理(ステップS109)および着磁を行う(ステップS110)。溶存酸素濃度を調整した水に浸漬処理することにより、磁石素体の酸化が抑制され、磁石素体と保護膜との密着性が向上し、耐食性が向上する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
希土類元素を含む磁石素体に保護膜が設けられた希土類磁石の製造方法であって、 磁石素体を酸により溶解処理したのち、溶存酸素濃度が質量単位で3.0ppm以下の水に浸漬処理する工程と、 この浸漬処理を行ったのち、磁石素体に保護膜を形成する工程と を含むことを特徴とする希土類磁石の製造方法。
IPC (1件):
H01F41/02
FI (1件):
H01F41/02 G
Fターム (2件):
5E062CD04 ,  5E062CG07
引用特許:
審査官引用 (10件)
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