特許
J-GLOBAL ID:200903000908777722
銅含有シリカガラス及びその製造方法、並びにそれを用いたキセノンフラッシュランプ
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
石原 詔二
, 石原 進介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-129707
公開番号(公開出願番号):特開2008-285344
出願日: 2007年05月15日
公開日(公表日): 2008年11月27日
要約:
【課題】波長400nm以下の紫外線の照射により、波長520nmから580nmにピークを持つ蛍光を発するガラスであり、高出力での使用においても長期安定性に優れた銅含有シリカガラス及びその製造方法、並びにそれを用いたキセノンフラッシュランプを提供することを目的とする。【解決手段】5wtppm以上200wtppm以下の銅を含有し、波長160nm以上400nm以下の紫外光の照射により520nm以上580nm以下の領域にピークを持つ蛍光を発し、かつ、波長530nmにおける厚さ2.5mmあたりの内部透過率が95%以上であるようにした。【選択図】図1
請求項1:
5wtppm以上200wtppm以下の銅を含有し、波長160nm以上400nm以下の紫外光の照射により520nm以上580nm以下の領域にピークを持つ蛍光を発し、かつ、波長530nmにおける厚さ2.5mmあたりの内部透過率が95%以上であることを特徴とする銅含有シリカガラス。
IPC (4件):
C03B 8/04
, C03B 20/00
, C03C 4/02
, C03C 3/06
FI (4件):
C03B8/04 N
, C03B20/00 F
, C03C4/02
, C03C3/06
Fターム (67件):
4G014AG03
, 4G014AG04
, 4G014AH11
, 4G014AH14
, 4G014AH21
, 4G014AH23
, 4G062AA03
, 4G062AA04
, 4G062BB02
, 4G062CC07
, 4G062DA08
, 4G062DB01
, 4G062DB02
, 4G062DC01
, 4G062DD01
, 4G062DE01
, 4G062DF01
, 4G062EA01
, 4G062EB01
, 4G062EB02
, 4G062EC01
, 4G062EC02
, 4G062ED01
, 4G062ED02
, 4G062EE01
, 4G062EE02
, 4G062EF01
, 4G062EG01
, 4G062FA01
, 4G062FA10
, 4G062FB01
, 4G062FC01
, 4G062FD01
, 4G062FE01
, 4G062FF01
, 4G062FG01
, 4G062FH01
, 4G062FJ01
, 4G062FK01
, 4G062FL01
, 4G062GA01
, 4G062GA10
, 4G062GB01
, 4G062GC01
, 4G062GD01
, 4G062GE01
, 4G062HH01
, 4G062HH03
, 4G062HH04
, 4G062HH05
, 4G062HH07
, 4G062HH09
, 4G062HH11
, 4G062HH13
, 4G062HH15
, 4G062HH17
, 4G062HH20
, 4G062JJ01
, 4G062JJ03
, 4G062JJ05
, 4G062JJ07
, 4G062JJ10
, 4G062KK01
, 4G062KK03
, 4G062KK05
, 4G062KK07
, 4G062KK10
引用特許:
出願人引用 (7件)
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蛍光ガラス及びそれを用いたレーザー装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-049892
出願人:セイコーエプソン株式会社
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蛍光シリカガラス
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-430709
出願人:信越石英株式会社
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波長変換シリカガラス
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-090070
出願人:信越石英株式会社, 有限会社オプト・エレクトロニクス・ラボラトリー
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審査官引用 (6件)
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