特許
J-GLOBAL ID:200903000921340511

質量分析装置、スキマ-コ-ン組立体、スキマ-コ-ン及びその製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高田 幸彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-037883
公開番号(公開出願番号):特開平8-236066
出願日: 1995年02月27日
公開日(公表日): 1996年09月13日
要約:
【要約】【目的】本発明の目的はスキマ-コ-ンの開口を浅くしかも高精度をもって形成することができ、その結果質量分析装置の高感度化が図られると共に、低廉化が図られるようにしたことにある。【構成】不活性ガスボンベ1からはトーチ管8にプラズマガスが供給される。ネブライザ3は試料4を吸引し、エアロゾールとしてプラズマ5の中に導入する。プラズマ5は円錐状面とその頂点に開口を備えるサンプリングコーン10に接し、その背面が減圧されたサンプリングコーンの開口を通してイオン流が抽出される。抽出されたイオン流は更にその頂点に細孔を備える円錐面状のスキマ-コーン12に接し、背面が更に減圧された真空室13に吸引され、四重極マスフィルター18に入り、質量分析される。スキマ-コ-ン12は平板を円錐形状をもつように加圧成形されたものである。
請求項(抜粋):
プラズマを生成する手段と、試料をイオン化し、それによってその試料のイオンを生成するように前記試料を前記プラズマに導入する手段と、前記生成されたイオンを通す開口を有するサンプリングコ-ンと、平板を円錐形状をもつように加圧成形して得られたものであって、その円錐形状の頂部に前記開口を通ったイオンを通す開口をもつスキマ-コ-ンと、前記サンプリングコ-ンと前記スキマ-コ-ンの間の空間を前記プラズマが形成される空間よりも低圧力に、前記スキマ-コ-ンの後段の空間を前記サンプリングコ-ンと前記スキマ-コ-ンの間の空間よりも低圧力にそれぞれ維持する手段と、前記スキマ-コ-ンの開口を通ったイオンを質量分析し、この質量分析されたイオンを検出する手段とを備えていることを特徴とする質量分析装置。
IPC (4件):
H01J 49/26 ,  G21K 1/02 ,  H01J 49/04 ,  G01N 27/62
FI (4件):
H01J 49/26 ,  G21K 1/02 C ,  H01J 49/04 ,  G01N 27/62 F
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特表平7-501418
審査官引用 (1件)
  • 特表平7-501418

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