特許

J-GLOBAL ID：200903000926758115

セラミック膜複合材の製造方法

発明者： 中村 修 ,  金森 稔文
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 広瀬 章一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-099871
公開番号（公開出願番号）：特開平5-295546
出願日： 1992年04月20日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：

【要約】【構成】 多孔質基材上に、CVDの気相蒸着法によりセラミック膜を形成する際に、成膜初期の成膜速度をセラミック原料気体の拡散速度の1/100 より小さくしてセラミック膜複合材を製造する。【効果】 多孔質基材の表面細孔内にセラミックが侵入するため、セラミック膜の付着力に優れ、剥離が起こらないセラミック膜複合材を製造できる。

請求項（抜粋）：

多孔質基材上に気相蒸着法によりセラミック膜を形成してセラミック膜複合材を製造する方法において、成膜初期の成膜速度を、原料気体の拡散速度の1/100 より小さくすることを特徴とする、セラミック膜複合材の製造方法。