遮光パターン形成方法及び液晶表示装置の製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-009239
公開番号（公開出願番号）：特開2002-214796
出願日： 2001年01月17日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：

【要約】【課題】遮光性のスペーサを用いながらもセルギャップのばらつきが抑制された液晶表示装置の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の液晶表示装置1の製造方法は、対向して配置された一対の基板7,18と、それら基板7,18の一方の対向面上に形成され且つ基板7,18間の間隔を一定に保つスペーサ5と、基板7,18間に挟持された液晶層4とを具備する液晶表示装置1の製造方法であって、基板7,18の一方の対向面上に感光性樹脂と色材とを含有し且つ波長が365nmの光に対して1.6以上の光学濃度を有する有機膜を形成する工程と、その有機膜から50μm乃至150μm離間させて露光マスクを配置し、この露光マスクを介して上記有機膜を露光する工程と、露光後の有機膜を現像液で現像することによりスペーサ5として使用される遮光パターンを形成する工程とを含むことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基体の一表面上に感光性樹脂と色材とを含有し且つ波長が365nmの光に対して1.6以上の光学濃度を有する有機膜を形成する工程と、前記有機膜から50μm乃至150μm離間させて露光マスクを配置し、この露光マスクを介して前記有機膜を露光する工程と、前記露光後の有機膜を現像液で現像することにより遮光パターンを形成する工程とを含むことを特徴とする遮光パターン形成方法。

IPC (4件)：

G03F 7/20 501 , G02F 1/1335 500 , G02F 1/1337 500 , G02F 1/1339 500

FI (4件)：

G03F 7/20 501 , G02F 1/1335 500 , G02F 1/1337 500 , G02F 1/1339 500

Fターム (26件)：

2H089LA10 , 2H089LA11 , 2H089LA12 , 2H089LA16 , 2H089MA03X , 2H089MA07X , 2H089NA14 , 2H090LA02 , 2H090LA05 , 2H090MB01 , 2H091FA34Y , 2H091FA35Y , 2H091FB04 , 2H091FC10 , 2H091FC22 , 2H091FD04 , 2H091GA06 , 2H091GA08 , 2H091LA13 , 2H091LA16 , 2H097BB01 , 2H097CA12 , 2H097FA02 , 2H097GA45 , 2H097JA04 , 2H097LA12

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