特許
J-GLOBAL ID:200903000950871739

ジヒドロナフタレン誘導体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 勝利
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-317677
公開番号(公開出願番号):特開2004-149470
出願日: 2002年10月31日
公開日(公表日): 2004年05月27日
要約:
【課題】従来製造が困難であるため、応用が遅れていたジヒドロナフタレン誘導体の簡便な製造方法を提供する。【解決手段】一般式(5)で表される1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-オン誘導体に一般式(3)で表されるカルボン酸ハライド、カルボン酸無水物等を【化1】を反応させることによる、一般式(1)で表されるジヒドロナフタレン誘導体の製造方法。一般式(1)で表されるジヒドロナフタレン誘導体は液晶材料として特に有用である。【選択図】 なし
請求項1:
一般式(1)
IPC (7件):
C07C67/08 ,  C07C67/14 ,  C07C69/013 ,  C07C69/145 ,  C07C69/24 ,  C07C69/75 ,  C07C69/753
FI (7件):
C07C67/08 ,  C07C67/14 ,  C07C69/013 B ,  C07C69/145 ,  C07C69/24 ,  C07C69/75 Z ,  C07C69/753 Z
Fターム (13件):
4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006BA92 ,  4H006BB11 ,  4H006BB12 ,  4H006BB15 ,  4H006BB25 ,  4H006BJ20 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM30 ,  4H006BM71 ,  4H006KC14 ,  4H006KC20

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