特許

J-GLOBAL ID：200903000952679894

スルホン誘導体の製造方法

発明者： 藤本 幸司 ,  島児 孝三 ,  大橋 尚仁
出願人/特許権者： 住友製薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-057947
公開番号（公開出願番号）：特開平5-230039
出願日： 1991年02月27日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：

【要約】【目的】重金属触媒を用いることなく、スルフィド又はスルホキシド化合物をスルホンに酸化する、安全、安価かつ簡便な工業的製造法を提供する。【構成】塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸などによる強酸性条件下、下式で代表されるスルフィド又はスルホキシド化合物を過酸化水素水、次亜塩素酸、過酸化t-ブチルなどの酸化剤と反応させて、対応するスルホン誘導体を製造する。【化1】(式中、nは0または1である)

請求項（抜粋）：

式(1)【化1】(式中、R1 及びR2 は、それぞれ水素、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルメチル、アルケニル、複素環式、アリールもしくはアラルキル基、又は、ハロゲン、ニトロ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、フェニル、フェノキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、ハロフェニルもしくはハロアルコキシ基で置換されたアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルメチル、アルケニル、複素環式、アリールもしくはアラルキル基を示し、 R4 、R5 、R6 及びR7 は、それぞれ水素、アルキル基、アルケニル基もしくはアリール基、又は、ハロゲン、ニトロ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、フェニル、フェノキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、ハロフェニルもしくはハロアルコキシ基で置換されたアリール基を示し、 Azは、1,2,4-トリアゾール-1-イル、1,2,4-トリアゾール-4-イルまたはイミダゾリル基を示し、nは0または1である)で表される化合物を酸性条件下、酸化剤と反応させる事を特徴とする式(2)【化2】(式中、R1 、R2 、R4 、R5 、R6 、R7 及びAzは前記と同じ意味を有する)で表される、スルホン誘導体の製造方法。

IPC (4件)：

C07D249/08 ,  C07D233/60 103 ,  A61K 31/41 ADZ ,  A61K 31/415

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特公平3-026721