特許
J-GLOBAL ID:200903000964464710

ビスマス系酸化物超電導体厚板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-246259
公開番号(公開出願番号):特開平5-085806
出願日: 1991年09月25日
公開日(公表日): 1993年04月06日
要約:
【要約】【目的】本発明は表面平滑にして遮蔽能等の超電導特性に優れたビスマス系酸化物超電導体厚板を製造せんとするものである。【構成】本発明は焼結処理を施したビスマス系酸化物超電導体厚板に生成した割れ、気泡部分に新たに超電導体物質を充填した後、再度焼結処理を施すことを特徴とするものである。
請求項(抜粋):
ビスマス、アルカリ土類金属、銅及び酸素からなるビスマス系酸化物超電導体物質又はその前駆物質の厚板成形体に焼結処理を施し超電導相を生成せしめてビスマス系酸化物超電導体厚板を製造する方法において、焼結処理時に該厚板成形体に生成した割れ又は気泡の部分にビスマス系酸化物超電導体物質を充填又は上記厚板成形体の全面に上記ビスマス系超電導体物質を供給して再度焼結処理を施した後、焼成処理を行うことを特徴とするビスマス系酸化物超電導厚板の製造方法。
IPC (6件):
C04B 35/00 ZAA ,  C01G 1/00 ZAA ,  C01G 29/00 ZAA ,  H01B 13/00 565 ,  H05K 9/00 ,  H01B 12/02 ZAA

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