特許
J-GLOBAL ID:200903000973110697

成膜方法、膜、電子デバイスおよび電子機器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 増田 達哉 ,  朝比 一夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-389999
公開番号(公開出願番号):特開2005-150046
出願日: 2003年11月19日
公開日(公表日): 2005年06月09日
要約:
【課題】均一な膜厚の膜を形成し得る成膜方法、かかる成膜方法により形成された膜、信頼性の高い電子デバイスおよび電子機器を提供すること。【解決手段】本発明の成膜方法は、基材5上に設けられたマスク6の開口部61内に液状材料7を供給して、所定パターンの膜8を成膜する成膜方法である。この成膜方法において用いる液状材料7は、膜8を形成するための膜材料と、液状材料7の動的接触角を低減させる動的接触角低減剤と、少なくとも1種の水系溶媒とを含んでなるものである。動的接触角低減剤は、含フッ素化合物および含珪素化合物の少なくとも一方を主成分とするものであるのが好ましい。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基材上に設けられたマスクの開口部内に液状材料を供給して、所定パターンの膜を成膜する成膜方法であって、 前記液状材料は、前記膜を形成するための膜材料と、前記液状材料の動的接触角を低減させる動的接触角低減剤と、少なくとも1種の水系溶媒とを含んでなることを特徴とする成膜方法。 [ただし、動的接触角とは、液滴をガラス基板の表面に載置した状態で、ガラス基板の傾斜角度を徐々に増大させたとき、液滴がガラス基板に対して移動を開始した時点において、液滴の移動方向と反対側において測定される接触角のことを言う。]
IPC (2件):
H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (2件):
H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (6件):
3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01
引用特許:
出願人引用 (1件)

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