特許
J-GLOBAL ID:200903000974127046

スラッシュ窒素の製造方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 高橋 昌久 ,  松本 廣
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2004000809
公開番号(公開出願番号):WO2004-080892
出願日: 2004年01月29日
公開日(公表日): 2004年09月23日
要約:
低温容器内に液体窒素を充填し、該容器内に容器内空間よりも高い圧力の液体ヘリウムや低温のヘリウムガス等の冷媒液或いはガスを噴出して液体窒素を吸い出すエジェクターを配置し、前記冷媒によって吸い出され冷媒と共に噴出される液体窒素は該冷媒によって冷却され微粒の固体窒素となって落下し、容器内空間のガスは該空間を常に大気圧以上に保つよう容器外に排出されるスラッシュ窒素の製造方法を提供する。さらに本願は液体窒素の温度付近、若しくは液体窒素と固体窒素が共存する温度付近で超伝導状態を示す物質を用いた超伝導物体の冷却方法において、断熱容器中に保有されたスラッシュ窒素中に、該物体を浸漬して、該物体をスラッシュ窒素と接触させ冷却することを特徴とする超伝導物体の冷却方法を提供する。
請求項(抜粋):
低温容器内に液体窒素を充填し、該容器内に容器内空間よりも高い圧力の液体ヘリウムや低温のヘリウムガス等の冷媒液或はガスを噴出して液体窒素を吸い出すエジェクターを配置し、前記冷媒によって吸い出され冷媒とともに噴出される液体窒素は該冷媒によって冷却され微粒の固体窒素となって落下し、容器内空間のガスは該空間を常に大気圧以上に保つように容器外に排出されることを特徴とするスラッシュ窒素の製造方法。
IPC (1件):
C01B 21/00
FI (1件):
C01B21/00

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