特許

J-GLOBAL ID：200903000977865005

ポジ型放射線感応性混合物

発明者： マティアス、アイヒホルン ,  ゲルハルト、ブール
出願人/特許権者： ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-105950
公開番号（公開出願番号）：特開平8-044064
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】 印刷板およびフォトレジストの製造に使用できる放射線感応性記録材料を被覆するのに使用される混合物の提供。【構成】 a)酸に対して敏感な基を有する重合体状バインダー、およびb)照射により強酸を形成する化合物を含むポジ型放射線感応性混合物であって、バインダーが同時に式I、IIおよびIIIR1 -OH (I)R1 -O-CO2 R2 (II)R1 -O-CH2 -CHR3 -OH (III )の単位を含むことを特徴とする混合物。

請求項（抜粋）：

下記a)およびb)を含有することを特徴とするポジ型放射線感応性混合物。a)酸に対して敏感な基を有する重合体状バインダーおよびb)照射により強酸を形成する化合物[ここでバインダーa)が同時に式I、IIおよびIII の単位を含有する。R1 -OH (I)R1 -O-CO2 R2 (II)R1 -O-CH2 -CHR3 -OH (III )式中、R1 は、重合体の主鎖または側鎖中に結合された、所望により置換されたフェニル基であり、R2 は(C3 〜C11)アルキル、(C3 〜C11)アルケニルまたは(C7 〜C11)アラルキル基であり、R3 は水素原子、所望により置換されたアルキルまたはアリール基、フタルイミドメチル基または基-CH2 OR4(式中、R4 は水素原子、または脂肪族基、環状脂肪族基または芳香族基であり、前記基は所望により置換されていてよい。]

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/016 501 ,  H01L 21/027