特許

J-GLOBAL ID：200903000979444473

ペリクル膜の製造時に使用した基板の洗浄方法

発明者： 松崎 仁美 ,  吾郷 時則 ,  中山 徳夫
出願人/特許権者： 三井石油化学工業株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 晃一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-041832
公開番号（公開出願番号）：特開平8-298253
出願日： 1995年03月01日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：

【要約】【目 的】 フッ素ポリマーを用いてペリクルの薄膜を製造するスピンコート工程で用いた石英基板のエッジ部及び裏面に残るフッ素ポリマー残膜及び表面に残留するセルロース系剥離膜を除去し、基板を再使用できるようにする。【構 成】 80°Cに加熱した3%のNaOH水溶液に基板を浸し、NaOH水溶液をポンプで循環して基板に吹き付ける。吹付けは、ヘッダーの上側面に吹出し口を二列形成した治具を用い、基板下側端面に対し、上向きに行う。5分間洗浄したのち、引き上げて1分間、水によるシャワーリングを行う。

請求項（抜粋）：

含フッ素樹脂によるペリクルの薄膜を製造するために用いた基板の洗浄方法において、上記基板を熱アルカリ水溶液または加熱された界面活性剤を含む洗浄剤に浸漬することを特長とする洗浄方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/06

FI (5件)：

H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/304 341 N ,  B08B 3/08 A ,  C11D 7/06