特許
J-GLOBAL ID：200903000986499194

制御装置及び処理システム

発明者：
豊田 隆之

豊田 隆之 について


出願人/特許権者：
株式会社半導体先端テクノロジーズ

株式会社半導体先端テクノロジーズ について


代理人 (1件)： 溝井 章司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-417621
公開番号（公開出願番号）：特開2005-182112
出願日： 2003年12月16日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：
【課題】前後する被処理物を所定の間隔で処理する制御をおこなうことを目的とする。 また、複数の工程からなる処理ラインの品質管理を適正におこなうことを目的とする。また、本発明は、必要に応じてバッチ処理する制御をおこなうことを目的とする。【解決手段】ロット1,2の処理状況を管理する管理部142と、上記ロット1に対するロット2の処理間隔を示す処理間隔情報を入力する入力部141と、上記管理部142により管理されたロット1,2の処理状況と上記入力部141により入力された処理間隔情報とに基づいて、ロット1,2の処理間隔を制御する制御部143とを備えたことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
第1と第2の被処理物の処理状況を管理する管理部と、 上記第1の被処理物に対する第2の被処理物の処理間隔を示す処理間隔情報を入力する入力部と、 上記管理部により管理された第1と第2の被処理物の処理状況と上記入力部により入力された処理間隔情報とに基づいて、第1と第2の被処理物の処理間隔を制御する制御部と を備えたことを特徴とする制御装置。
IPC (3件)：
G05B19/418 ,  G06F17/60 ,  H01L21/02
FI (3件)：
G05B19/418 Z ,  G06F17/60 108 ,  H01L21/02 Z
Fターム (6件)：
3C100AA21 ,  3C100AA29 ,  3C100AA34 ,  3C100BB27 ,  3C100BB33 ,  3C100EE06
引用特許：
出願人引用 (4件)
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